Przetarg: Wykonanie, dostawa i montaż planarnego źródła magnetronowego do nanoszenia powłok techniką PVD, przystosowanego do pracy w trybie HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering)

Opis Przedmiotu Zamówienia Przedmiotem zamówienia jest wykonanie, dostawa i montaż planarnego, prostokątnego źródła magnetronowego o wymiarach katody 1000 x 100 x 10 mm, przystosowanego do pracy w trybie HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) w wielofunkcyjnym urządzeniu PVD do hybrydowej obróbki powierzchniowej metali i stopów. Źródło magnetronowe jest podzespołem plazmowym umożliwiającym rozpylanie jonowe metali i stopów, montowanym na drzwiach komory próżniowej we flanszy o wymiarach obrysowych 364 x 1234 mm, z najdłuższą płaszczyzną symetrii w pozycji pionowej.