Wyniki przetargu: /ZP Dostawa urządzenia do sputteringowego osadzania metali i dielektryków.

Opis przedmiotu zamówienia Wymagania ogólne Zautomatyzowany system do osadzania warstw techniką PVD (osadzanie z fazy gazowej), z jedną komorą procesową i jedną załadowczą umożliwiającą nanoszenie cienkich warstw w kontrolowanych warunkach próżni. Komora załadowcza zapewnia wymianę próbek bez zmiany warunków w komorze procesowej. Sterowanie automatyczne przez system zarządzania procesem gwarantujące powtarzalność parametrów. Konstrukcja umożliwia rozbudowę i doposażenie. Rodzaje procesów Nanoszenie warstw metalicznych: Au, Cr, Ni, Pt, Ag, AuGe, Ti; dielektrycznych: SiO₂, SiNₓ, Al₂O₃. Komora procesowa - Cylindryczna, średnica ≤600 mm, wysokość ≤550 mm po otwarciu.