Wyniki przetargu: F2/83/2025/ZP Dostawa urządzenia do trawienia plazmowego ICP RIE – z koniecznością grzania podłoża podczas procesu.

Przedmiotem zamówienia jest dostawa, instalacja, uruchomienie i testowanie urządzenia do trawienia plazmowego ICP RIE z koniecznością grzania podłoża podczas procesu wraz z dokumentacją i szkoleniem. Urządzenie służy do trawienia materiałów stosowanych w mikroelektronice metodą plazmy sprzężonej indukcyjnie (ang. Inductively Coupled Plasma - ICP). Musi umożliwiać trawienie materiałów półprzewodnikowych na bazie GaN, SiC, Ga2O3. Budowa systemu Główna rama systemu musi zawierać pompę turbomolekularną i zawory. System musi być przystosowany do zasilania napięciem przemiennym o częstotliwości 50 Hz jednofazowym (230 V) lub, alternatywnie, trójfazowym (400 V).