F2/212/2025/ZP
Wyniki przetargu: F2/212/2025/ZP Dostawa urządzenia do plazmowego czyszczenia powierzchni.
Opis zamówienia
Opis przedmiotu zamówienia Przedmiotem zamówienia jest dostawa, instalacja, uruchomienie i testowanie urządzenia do plazmowego czyszczenia powierzchni (podłoży półprzewodnikowych, dielektryków, metalizacji) wraz z dokumentacją i szkoleniem. Główne parametry techniczne: - Źródło plazmy: Generator mikrofalowy 2.45 GHz, moc min. 1000 W, z tunerem. - Robot transferowy: Typ pick and place, sterowany Ethernet, dla podłoży: cienkie Si, grube Si, szkło, GaAs, GaN, SiC. - Gazy procesowe: Min. 4 MFC, możliwość mieszania 2-3 gazów (O2, N2, 95%N2/5%H2, SF6), linie gazowe z VCR. - Monitorowanie procesu: Wbudowany moduł OES (optical emission spectroscopy).
To skrócony opis zamówienia. Pełna dokumentacja i analiza przetargu są dostępne w Mimirze.
Przeczytaj całość na platformie MimiraPodobne przetargi
Dopasowane na podstawie kodów CPV, przedmiotu zamówienia i lokalizacji.



Dostawa dynamicznych maszyn wytrzymałościowych wraz z osprzętem


Dostawa aparatury kontrolnej i badawczej

Dostawa układu do przygotowania próbek na potrzeby Wydziału Chemicznego Politechniki Łódzkiej
