Przetarg: F2/155/2025/ZP Dostawa urządzenia do plazmowego czyszczenia podłoży.

Przedmiotem zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego urządzenia do plazmowego czyszczenia podłoży, przeznaczonego do zastosowań w mikroelektronice. Urządzenie musi być wyprodukowane w 2025 roku i być nieużywane. Jego głównym zadaniem jest czyszczenie podłoży takich jak półprzewodniki, dielektryki i metalizacje, z wykorzystaniem plazmy tlenowej, argonowej oraz azotowej. Realizacja przedmiotu zamówienia odbywać się będzie zgodnie z zasadą „nie czyń poważnej szkody” (DNSH), co oznacza, że urządzenie musi być energooszczędne, aby ograniczać zużycie energii i zmniejszać emisję gazów cieplarnianych, a także ogólnie spełniać zasady ochrony środowiska.